2.仿真皮革是“化学涂层皮革”中层次较高的一类产品，它面世至今已有40 多年前史。其根本构成是由纺织布底基或无纺布底基，分别用聚氨酯涂复并采 用特别发泡处理制成的，有外表手感酷似真皮，具有十分杰出的透气性、耐磨性和 耐寒性。

  3.可是现有的反光革强度与韧度都欠安，抗拉伸才能低，具有必定的缺点性。

  4.本实用新型的意图是供给一种抗拉伸的反光革，以处理上述布景技能中提呈现有的反光革强度与韧度都欠安，抗拉伸才能低的问题。

  5.为完成上述意图，本实用新型供给如下技能计划：一种抗拉伸的反光革，包含反光革本体，所述反光革本体包含基布，所述基布的一侧固定衔接有硅胶层，所述硅胶层远离基布的一侧固定衔接有玻纤布层，所述玻纤布层远离硅胶层的一侧固定衔接有荧光层。

  12.该抗拉伸的反光革，经过在基布的上方设置硅胶层具有较好的回弹功用，荧光层与硅胶层之间设置玻纤布层起到耐抗拉强度的效果，可使得反光革本体高抗拉强度增强，本实用新型经过玻纤布层的设置使反光革具有较好的抗折抗拉伸才能。

  15.下面将结合本实用新型施行例中的附图，对本实用新型施行例中的技能计划进行清楚、完整地描绘，明显，所描绘的施行例仅仅是本实用新型一部分施行例，而不是悉数的施行例。根据本实用新型中的技能计划，本范畴一般技能人员在没做出创造性劳动前提下所取得的一切其他施行例，都归于本实用新型维护的规模。

  16.在本实用新型的描绘中，需求了解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或方位联系为根据附图所示的方位或方位联系，仅是

  为了便于描绘本实用新型和简化描绘，而不是指示或暗示所指的设备或元件必定要有特定的方位、以特定的方位结构和操作，因而不能了解为对本实用新型的约束。

  17.请结合参看图1。一种抗拉伸的反光革，包含反光革本体1，反光革本体1包含基布6，基布6的一侧固定衔接有硅胶层2，硅胶层2远离基布6的一侧固定衔接有玻纤布层3，玻纤布层3远离硅胶层2的一侧固定衔接有荧光层4，详细的讲，基布6的上方设置硅胶层2具有较好的回弹功用，荧光层4与硅胶层2之间设置玻纤布层3起到耐抗拉强度的效果，可使得反光革本体1具有高抗拉，强度增强。

  23.作业原理：首要经过在基布6的上方设置硅胶层2具有较好的回弹功用，荧光层4与硅胶层2之间设置玻纤布层3起到耐抗拉强度的效果，可使得反光革本体1具有高抗拉，强度增强。

  24.以上所述仅为本实用新型的施行例，并非因而约束本实用新型的专利规模，但凡使用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程改换，或直接或直接运用在其它相关的技能范畴，均同理包含在本实用新型的专利维护规模内。

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